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集成式 IV光伏測試系統由OAI設計與制造 它通過提供優化的脈沖寬度和電壓掃描速率，以匹配任何類型太陽能電池的高電容和較慢的介電響應速度。

AML 原位對準晶圓鍵合機由OAI設計與制造 晶圓鍵合技術已在微系統技術（MST）、微機電系統（MEMS）、III-V 族（半導體）、集成電路（ICs）及光電子器件等領域得到了廣泛應用。

AAA 標準太陽模擬器由OAI設計與制造 該太陽能模擬器采用*的均勻光束光學系統，包括專有鍍膜反射鏡、濾光片和光束均勻性積分器，能夠提供高精度、準直的光束，且工作距離最長。

Model 6020 全自動掩模曝光機由OAI設計與制造 用于重新分布層（RDL）面板級封裝和玻璃面板曝光的大尺寸基板生產型掩模對準器或泛光曝光系統。

Model 6000 生產型掩膜曝光機由OAI設計與制造 可用于半導體、微機電系統（MEMS）、傳感器、先進晶圓級封裝（WLP）、化合物半導體、發光二極管（LED）以及扇出型面板級封裝（Fanout PLP）。