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Model 2000 邊緣去膠紫外泛光曝光機由OAI設計與制造 2000SM型可顯著減少因常規晶圓操作而產生的顆粒污染。在OAI 2000SM型和2000FL型系統中，機器人是主要移動部件，這一設計極大地簡化了這套系統。

Model 800E 增強型半自動紫外掩膜曝光機由OAI設計與制造 在半導體行業，OAI 擁有 40 余年產品研發和制造經驗，以專為研發及半自動生產設計的光刻設備，應對動態市場日益增長的挑戰。800E 型基于經實踐驗證的 OAI 模塊化平臺打造，是一套增強型、高性能、高分辨率光刻系統，在該價格段性能好。對準器搭載 OAI 先進光束光學技術，均勻性佳。

Model 212 紫外掩膜曝光機由OAI設計與制造 一種用于大面積基板的低成本研發工具。這是一款多功能工具，既能適配較小尺寸的基板和掩模，也能輕松升級以處理更大尺寸的基板。適用于封裝、顯示器、有機發光二極管（OLED）、半導體晶圓的研發 其規格與 OAI 200 型臺式掩模對準器相同

Model 200 紫外掩膜曝光機由OAI設計與制造 OAI 系統能夠處理各種常規形狀和不規則形狀的多種基板。高效光源在多種光譜范圍內可提供均勻的紫外線曝光。