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  • Model 200 紫外掩膜曝光機
    Model 200 紫外掩膜曝光機

    Model 200 紫外掩膜曝光機由OAI設計與制造 OAI 系統能夠處理各種常規形狀和不規則形狀的多種基板。高效光源在多種光譜范圍內可提供均勻的紫外線曝光。

    更新時間：2025-07-04型號：瀏覽量：38
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