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Model 212 紫外掩膜曝光機由OAI設計與制造 一種用于大面積基板的低成本研發工具。這是一款多功能工具,既能適配較小尺寸的基板和掩模,也能輕松升級以處理更大尺寸的基板。適用于封裝、顯示器、有機發光二極管(OLED)、半導體晶圓的研發 其規格與 OAI 200 型臺式掩模對準器相同
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