Harrick等離子清洗機是用于清洗實驗室玻璃儀器和襯底表面的設備，其原理是利用等離子體對樣品表面進行清洗和去除污染物。等離子體是物質中電離產生的電子、離子和中性粒子的混合態，具有高能量和高反應性。通過建立一個含有氣體的高頻電場，通過放電產生等離子體。
 

　　首先，樣品被放置在清洗室中，并用夾具固定。清洗室內充滿了一種氣體，通常是氧氣或惰性氣體(如氮氣或氬氣)。當高頻電源開始工作時，產生的電場激活氣體分子，使其發生電離和激發。這些電子、離子和激發態分子以高速運動，并與樣品表面碰撞。
 

　　碰撞時，等離子體中的電子和離子會與樣品表面的污染物發生反應，使其氧化或還原。這些氧化或還原反應使污染物分解為無害的氣體或可溶的化合物。同時，等離子體中的能量也能夠去除表面的有機物和油脂。
 

　　此外，等離子清洗機還具有噴射清洗的功能。通過噴嘴，氣體被噴射到樣品表面，產生沖擊力和剝離作用。這樣，即使是較難附著的污垢也能夠被清洗掉。
 

　　隨著清洗的進行，污染物和氣體會被抽出清洗室，以保持清洗室內的氣體質量。一般情況下，清洗室還配備了一個真空泵來協助抽出廢氣。

  

　　Harrick等離子清洗機的應用領域包括但不限于：
 

　　1. 可用于清洗半導體材料表面，去除雜質和有機物，提高半導體器件的性能和可靠性。
 

　　2. 可用于清洗薄膜涂層的基片，去除表面污染物和氧化物，提高薄膜的附著力和質量。
 

　　3. 可用于清洗材料的表面，去除表面污染物和有機物，準備干凈的材料樣品，用于研究材料的物理特性和化學反應。
 

　　4. 可用于清洗生物材料的表面，去除細菌和污染物，準備干凈的樣品，用于生物醫學研究和生物傳感器的制備。
 

　　5. 可用于清洗光學元件的表面，去除灰塵、臟物和有機污染物，提高光學元件的透明度和性能。