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光刻膠蝕刻殘留物清洗劑Post-CMP Cleans是一款由杜邦研發與生產的清洗劑，PCMP清洗劑適用于前端工藝（FEOL）中的氧化鈰、多晶硅、二氧化硅材料，中端工藝（MEOL）中的鎢材料，以及后端工藝（BEOL）中的銅材料制程
光刻膠蝕刻殘留物清洗劑Post-Etch Cleans是一款由杜邦研發與生產的用于鋁（Al）和銅（Cu）互連結構的蝕刻后殘留物去除劑（PERR）
光刻膠蝕刻殘留物清洗劑LED, TSV, WLP Cleans是一款由杜邦研發與生產的LED、TSV、WLP 清洗試劑
光刻膠蝕刻殘留物清洗劑Post-Patterning Cleans是一款由杜邦研發與生產的光刻膠去除劑與剝離劑
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