Model 800E 增強型半自動紫外掩膜曝光機

簡要描述：Model 800E 增強型半自動紫外掩膜曝光機由OAI設計與制造
在半導體行業，OAI 擁有 40 余年產品研發和制造經驗，以專為研發及半自動生產設計的光刻設備，應對動態市場日益增長的挑戰。800E 型基于經實踐驗證的 OAI 模塊化平臺打造，是一套增強型、高性能、高分辨率光刻系統，在該價格段性能好。對準器搭載 OAI 先進光束光學技術，均勻性佳。

產品型號：

所屬分類：Model 800E 紫外掩膜曝光機

更新時間：2025-07-04

廠商性質：生產廠家

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Model 800E 增強型半自動紫外掩膜曝光機

Model 800E 增強型半自動紫外掩膜曝光機

在半導體行業，OAI 擁有 40 余年產品研發和制造經驗，以專為研發及半自動生產設計的光刻設備，應對動態市場日益增長的挑戰。800E 型基于經實踐驗證的 OAI 模塊化平臺打造，是一套增強型、高性能、高分辨率光刻系統，在該價格段性價比高。對準器搭載 OAI 先進光束光學技術，良好均勻性。借助 OAI 精密光刻模塊可實現升級，800E 型成為實驗室或現場適用的多功能工具。它采用 Windows 10 控制及配方存儲功能，還配備操縱桿控制的對準和光學載臺，可配置非接觸式三點楔效應校正及自動對準功能。這些特性組合常見于更昂貴的掩模對準器，而 800E 型以實惠價格即可提供。

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