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Harrick等離子清洗機(jī)的應(yīng)用

發(fā)布時(shí)間: 2017-06-02  點(diǎn)擊次數(shù): 1600次
   Harrick等離子清洗機(jī)的應(yīng)用,起源于20世紀(jì)初,隨著高科技產(chǎn)業(yè)的快速發(fā)展,其應(yīng)用越來(lái)越廣,目前已在眾多高科技領(lǐng)域中,居于關(guān)鍵技術(shù)的地位,等離子清洗技術(shù)對(duì)產(chǎn)業(yè)經(jīng)濟(jì)和人類(lèi)文明影響zui大,*電子資訊產(chǎn)業(yè),尤其是半導(dǎo)體業(yè)與光電產(chǎn)業(yè)。
  Harrick等離子清洗機(jī)應(yīng)用:
  1. 高分子材料表面修飾。
  2. 清洗光學(xué)鏡片、電子顯微鏡片等多種鏡片和載片。
  3. 移除光學(xué)元件、半導(dǎo)體元件等表面的光阻物質(zhì)。
  4. 清洗ATR元件、各種形狀的人工晶體、天然晶體和寶石。
  5. 清洗半導(dǎo)體元件、印刷線路板。
  6. Harrick等離子清洗機(jī)可清洗生物芯片、微流控芯片。
  7. 清洗沉積凝膠的基片。
  8. 清洗電子元件、光學(xué)器件、激光器件、鍍膜基片、芯片。
  9. 牙科材料、人造移植物、醫(yī)療器械的消毒和殺菌。
  10. 改善粘接光學(xué)元件、光纖、生物醫(yī)學(xué)材料、宇航材料等所用膠水的粘和力。
  Harrick等離子清洗機(jī)是一種小型化、非破壞性的超清洗設(shè)備。Harrick等離子清洗機(jī)采用氣體作為清洗介質(zhì),有效地避免了因液體清洗介質(zhì)對(duì)被清洗物帶來(lái)的二次污染。離子清洗機(jī)外接一臺(tái)真空泵,工作時(shí)清洗腔中的等離子體輕柔沖刷被清洗物的表面,短時(shí)間的清洗就可以使有機(jī)污染物被*地清洗掉,同時(shí)污染物被真空泵抽走,其清洗程度達(dá)到分子級(jí)。Harrick等離子清洗機(jī)除了具有超清洗功能外,在特定條件下還可根據(jù)需要改變某些材料表面的性能,等離子體作用于材料表面,使表面分子的化學(xué)鍵發(fā)生重組,形成新的表面特性。對(duì)某些有特殊用途的材料,在超清洗過(guò)程中離子清洗機(jī)的輝光放電不但加強(qiáng)了這些材料的粘附性、相容性和浸潤(rùn)性,并可消毒和殺菌。Harrick等離子清洗機(jī)廣泛應(yīng)用于光學(xué)、光電子學(xué)、電子學(xué)、材料科學(xué)、生命科學(xué)、高分子科學(xué)、生物醫(yī)學(xué)、微觀流體學(xué)等領(lǐng)域。
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