高功率等離子清洗機的清洗原理是根據電離氣體將來自清洗源被固定在表面的化合物轉變為無害的氣體。基于高頻電離氣體產生等離子體的設備，用于清洗表面污染物以及去除表面化學物質。這種清洗方法很適用于那些高負荷、密集成分的部件和微型裝置元件。可以采取干燥清洗，采用氧氣作為清洗氣體，并形成大約0.5~1的等離子弧，在空間中形成的氧氣離子使已經吸附在材料表面的污垢加熱、膨脹并燃燒。這樣，污垢就被轉化為氣態氧化產物并被沖入大氣中。此過程溫度升至數百℃，并同時接近平衡電子、陰離子、陽離子等離子體間的化學反應。清洗完成后實現凈化表面，并還原其基本性能。
 

　　高功率等離子清洗機特點：
 

　　1.速度快：與其他傳統清潔方式相比，誤差小，時間短，而且可清洗復雜結構部分內側的污垢；
 

　　2.效果好：手術器械和半導體制造業對表面微觀結構和化學純潔度的要求高，在傳統清洗方式下難以達到要求，然而等離子清洗可以更好地滿足要求；
 

　　3.安全性高：使用使不需要涂抹化學清潔劑，避免了其他清洗方式清潔劑溢出所帶來的風險。
 

　　高功率等離子清洗機廣泛應用于精密儀器、高負荷、密集元件的清洗、半導體產品生產過程中，以及醫學器械消毒清洗、車輛發動機清洗、核聚變研究方面等。通過頂部入口將待清洗器件放入等離子體中，在清洗時無需接觸或刷洗待處理的部件，杜絕了劃傷、佩戴和損壞等問題并保證其表面特征。清洗后，設備監測器將停止平行放電，關閉電容器并自動向放電電路注入電路支持大流量，直到排出殘留物質。