勻膠旋涂儀采用創新設計的托盤，無需真空泵或充氮氣，就能達到很好的旋涂效果；內置調整水平裝置，較大限度的保證旋涂均勻；可對大小不同規格的基片進行旋涂。勻膠旋涂儀隨意任意時間范圍的加減速，可重復性達到+/-0.5RPM，分辨率小于0.5RPM；這一系列的旋轉涂膜儀上的液晶顯示屏可以實時讀取任意速度狀態。
　　勻膠旋涂儀主要用于液體，膠體在材料表面薄膜的形成，適用于硅片，晶片，玻璃，陶瓷等制版表面涂覆工藝。可在科研，教育，生產中應用。勻膠旋涂儀主要用微細加工、半導體、微電子、光電子和納米技術工藝中在硅片、陶瓷片上勻膠等工藝與光刻、烘烤等設備配合使用。勻膠旋涂儀能滿足各類以下尺寸的基片處理要求，并配制相應的托盤夾具。驗收除按賣方提供的標準基片外，另外可根據買方要求的 10mm 的碎片和 4 英寸的晶圓片等驗收試驗要求。
　　勻膠旋涂儀的特點：
　　1、該勻膠機采用德國先進技術：
　　2、勻膠機采用NPP天然聚丙烯材質構造設計，這種材質有很好的抗腐蝕性和抗化學物性，美觀大方；
　　3、勻膠旋涂儀真空Chuck經精密加工制成，具有良好的光潔度及平整度，保證晶圓片被很好地吸附，主軸采用進口微型單列向心球軸承支撐，軸向有彈性墊及調整墊，可保障主軸具有較高的精度。
　　4、在安裝結構上，采取了減振措施，保證了在運轉時噪音很低，保證涂覆表面均勻，保證通過調節轉速調節涂覆厚度。
　　5、勻膠旋涂儀腔體配備吹氮(N2)功能，或壓縮空氣、氮氣壓力可通過調壓閥和節流閥實現調節，與配套真空泵一同使用。
　　勻膠旋涂儀在高速旋轉的基片上，滴注各類膠液，利用離心力使滴在基片上的膠液均勻地涂覆在基片上，厚度視不同膠液和基片間的粘滯系數而不同，也和旋轉速度及時間有關。