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KLA Filmetrics F3-sX薄膜厚度測量儀

簡要描述:KLA Filmetrics F3-sX薄膜厚度測量儀系列,涵蓋近紅外光波長范圍980 nm、1310 nm及1550 nm,能夠測量從15納米至3毫米的薄膜厚度,適用于半導體與介電層等材料。該設備具備單點測量功能,配備10微米光斑尺寸的集成光譜儀和光源,并支持擴展功能如自動化測繪平臺和不同波長選項。此外,它還提供了超過130種材料的數據庫支持,以及在線技術支持服務。

產品型號:

所屬分類:薄膜厚度測量儀

更新時間:2025-03-10

廠商性質:生產廠家

詳情介紹

KLA Filmetrics F3-sX薄膜厚度測量儀能測量半導體與介電層薄膜厚度到3毫米,而這種較厚的薄膜與較薄的薄膜相比往往粗糙且均勻度較為不佳

波長選配

KLA Filmetrics F3-sX薄膜厚度測量儀系列使用近紅外光來測量薄膜厚度,即使有許多肉眼看來不透光(例如半導體)。 F3-s980 是波長為980奈米的版本,是為了針對成本敏銳的應用而設計,F3-s1310是針對重摻雜硅片的最佳化設計,F3-s1550則是為了最厚的薄膜設計。

附件

附件包含自動化測繪平臺,一個影像鏡頭可看到量測點的位置以及可選配可見光波長的功能使厚度測量能力最薄至15奈米。

包含的內容:

  • 集成光譜儀/光源裝置

  • 光斑尺寸10微米的單點測量平臺

  • FILMeasure 8反射率測量軟件

  • Si 參考材料

  • FILMeasure 獨立軟件 (用于遠程數據分析)

  • 型號規格

  • 型號厚度范圍波長范圍
    F3-s9801μm-1mm
    960-1000nm
    F3-s131015μm-2mm
    1280-1340nm
    F3-s155025μm-3mm1520-1580nm
  • KLA Filmetrics F3-sX薄膜厚度測量儀





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